Химический микрореактор для локального осаждения покрытий методом CVD

В рамках работы над кандидатской диссертацией разработана конструкция химического микрореактора, для проведения процесса локального химического осаждения из газовой фазы (CVD) тонких пленок и наночастиц. Метод может применяться для экономически эффективной реализации большого многообразия экспериментальных условий осаждения (более 100 000 вариантов), позволяя получать слои с разными свойствами. Под конкретную задачу химической технологии из этого многообразия методом скрининга может быть найден эффективный катализатор. Метод реализовывает экстенсивный подход к поиску катализаторов за счет кардинального снижения себестоимости проведения единичного эксперимента.